个人简介
研究方向：
集成光电子器件；光学单晶薄膜异质结构的制备；离子辐射效应及材料改性研究。
工作经历：
2020.10-至今 永利集团304am官方入口，304am永利集团，助理教授
2018.06-2020.09 永利集团304am官方入口，先进材料测试技术研究中心，专职副研究员
2016.05-2018.05 深圳大学，光电工程学院，博士后
教育经历：
2009.09-2014.12 山东大学，光学工程专业，工学博士
2013.09-2014.09 澳大利亚国立大学，光学工程专业，联合培养博士研究生
2005.09-2009.07 泰山学院，光信息科学与技术专业，理学学士
代表性论文：
1. Radiation effects on He+- and H+-implantation for ion slicing of rutile titanium dioxide thin film.Yu-Jie Ma, Senhua Lin, Yizhi Qiu, Xinzhi Zheng, Mingyoung Yu, Bingxi Xiang, Fang Xu, Fei Lu, Cangtao Zhou, and Shuangchen Ruan*.Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, Vol. 533, 1-8 (2022).
2. Fabrication of a rutile titanium dioxide thin film heterostructure using ion-implantation with Cu-Sn bonding.Yu-Jie Ma, Cangtao Zhou, Bingxi Xiang, Mingyang Yu, Fei Lu, Jinde Yin, Shuang-Chen Ruan*.Optical Materials Express, Vol. 11, 1196-1204 (2021)
3. Fabrication of TiO2 thin films with both anatase and rutile structure together using ion-implantation method.Yu-Jie Ma, Fei Lu, Bing-Xi Xiang, Jin-Lai Zhao, Shuang-Chen Ruan*.Optical Materials Express, Vol. 8, 532-540 (2018)
4. Twinning and defect formation mechanism in He+/H+-implanted KTiOPO4.Yu-Jie Ma, Fei Lu, Bing-Xi Xiang, Jin-Lai Zhao, Shuang-Chen Ruan*.Optical Materials Express, Vol. 7, 3204-3213 (2017)
5. Analysis of layer splitting in x and z-cut KTiOPO4 implanted by H+ ions.Yu-Jie Ma, Fei Lu*, M.C. Ridgway, Chang-Dong Ma.Optical Materials, Vol. 54, 1-5 (2016)
6. Orientation dependence of swift heavy ion track formation in potassium titanyl phosphate.Yu-Jie Ma; Mota Santiago, Pablo; Rodriguez, Matias; Kremer, Felipe; Schauries,Daniel; Afra, Boshra; Bierschenk, Thomas; Llewellyn, David; Lu, Fei; Ridgway,Mark; Kluth, Patrick*.Journal of Materials Research, Vol. 31, 2329-2336 (2016)
7. Micro-structure analysis of He+ ion implanted KTP by TEM.Yu-Jie Ma, Fei Lu*, M.C. Ridgway, Chang-Dong Ma, Bo Xu.Optical Materials Express, Vol. 5, 986-995 (2015)
8. Radiation damage study of MeV ion-implanted Nd:YVO4 crystal.Yu-Jie Ma, Fei Lu*, Jiao-Jian Yin, Chang-Dong Ma.Materials Science and Engineering: B, Vol. 178, 1464-1468 (2013)
9. Refractive-index profile in ion implanted neodymium-doped yttrium vanadate waveguide: the relation between index change and lattice damage.Yu-Jie Ma, Fei Lu*, Jiao-Jian Yin, Xiu-Hong Liu.Optical Engineering, Vol. 52(9), 097101-1--197101-6 (2013)
10. Analysis of Si+-implanted Nd:YVO4 crystal: the relation between lattice damage and waveguide formation.Yu-Jie Ma, Fei Lu*, Xian-Bing Ming, Ming Chen, Xiu-Hong Liu, Jiao-Jian Yin.Applied Optics, Vol. 51, No.23, 5657-5663(2012)
授权发明专利：
1. “金红石二氧化钛单晶薄膜-衬底材料异质结构及其制备方法”，发明专利，第一发明人，专利号：CN 111725298 B，授权公告日：2022-02-18，专利权人：永利集团304am官方入口。
2. “一种利用离子注入制作磷酸钛氧钾薄膜的方法”，发明专利，第二发明人，专利号：ZL 2014 1 0199630.6，授权公告日：2016-08-24，专利权人：山东大学。
主持的科研项目：
1.国家自然科学基金青年科学基金项目，2021.01.01 ~ 2023.12.31， 24万元，负责人；
2.深圳市博士后科研启动项目，2020.01.01~ 2021.12.31， 20万元，负责人；
3.广东省自然科学基金项目，2018.01.01~ 2020.12.31， 10万元，负责人；
4.深圳市科创委基础研究项目，2017.05.25~ 2019.05.31， 30万元，负责人；
5.中国博士后科学基金项目，2016.11.10 ~ 2018.04.28， 5万元，负责人；
6.永利集团304am官方入口青年教师公司产品能力培养提升计划项目， 2021.04~2022.04， 2万元，负责人；
获得的奖励和荣誉：
深圳市高层次人才；
2022年度讲课竞赛三等奖；
